Viele Hersteller von Prozessmodellierungswerkzeugen haben ihr Funktionsangebot ausgebaut. Kennzahlenanalyse und Prozessteuerung waren dabei wesentliche Entwicklungstreiber. Das ist das Ergebnis der Studie "Prozessmodellierungswerkzeuge" des Analystenhauses BARC. Darin erhalten Unternehmen auf 490 Seiten eine detaillierte Hilfe bei der Wahl der passenden Software. Insgesamt wurden zwölf Werkzeuge getestet.

Die Ergebnisse zeigen unter anderem, dass bei der kostenlosen Open-Source-Software Intalio die Funktionalität zur Workflow-Steuerung hervorgehoben werden muss. Die Software besteht aus zwei Komponenten: dem Designer und dem Server. Der Designer basiert auf Eclipse und modelliert durch das Erstellen eines BPMS-Modells und das Anpassen von Variablen einen vollständig ausführbaren Prozess. Per Mausklick wird dieses Modell dann von BPMN nach BPEL 2.0 und BPEL4People transferiert. Der Designer greift dabei auf gängige Eclipse-Module wie das GEF (Graphical Editing Framework) zurück und ermöglicht so eine schnelle Modellierung über Drag&Drop.

Die Software verwendet für die Modellierung der Prozesse standardmäßig die Business Process Modeling Notation und stellt alle gängigen Shapes zur Verfügung. Über spezielle und kostenfreie Add-Ons für Eclipse können auch die Modellierungsobjekte für die EPK, UML oder für Petri-Netze aus dem Internet herunter geladen werden. Bei der Modellierung kann auf die standardmäßigen Operatoren und Konnektoren der BPMN zurückgegriffen werden.

Das Konzept von Intalio besteht größtenteils darin, aus einem modellierten Geschäftsprozess einen ausführbaren BPEL-Code zu erzeugen. Die Software ist nur für einen Anwender ausgelegt und besitzt daher keine Mehrbenutzerfähigkeit mit eigenem Rollen- und Rechtekonzept. Positiv bewertet wird allerdings die mögliche Integration des kostenlosen Open SourceOpen Source Content Management System Alfresco. Über dieses können bestimmte Mitarbeiter beispielsweise über Prozessveränderungen informiert und prozessspezifische Dokumente verwaltet werden. Alles zu Open Source auf CIO.de